Gallium Arsenide is a compound of the elements gallium and arsenic. It is
a III-V direct bandgap semiconductor with a zinc blende crystal structure.
Gallium arsenide is used in the manufacture of devices such as microwave
frequency integrated circuits, monolithic microwave integrated circuits,
infrared light-emitting diodes, laser diodes, solar cells and optical windows.
GALLIUMARSENIDE provide you Gallium Arsenide material for your research and industry purpose as follows:
Gallium Arsenide substrate
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Gallium Arsenide substrate
1)2",3",4"(GaAs)
Gallium Arsenide Wafers
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Conduction Type:n-type/p-type
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Growth Method:VGF
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Dopant:Silicon/Zn
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Crystal
Orientation:(100)20/60/150 off (110)
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Carrier
Concentration:(0.4~2.5)E18/cm3
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Resistivity at RT:(1.5~9)E-3 Ohm.cm
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Mobility:1500~3000cm2/V.sec
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Etch Pit
Density:<5000/cm2
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Thickness:220~500um
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Surface Finish:P/E
or P/P
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Packaging:Single wafer container or
cassette
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